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桌面式磁控濺射設(shè)備—MS-200品牌
致真精密產(chǎn)地
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MS-200磁控濺射設(shè)備是一款小型臺(tái)面式濺射系統(tǒng)，具有高真空、單原子層沉積精度的特點(diǎn)，可以靈活選擇陰極向上或向下濺射。設(shè)備標(biāo)配1個(gè)2英寸超高真空陰極。滿足簡(jiǎn)單的材料研究需求。
晶圓尺寸 | 4inch向下兼容 |
鍍膜均勻性 | 優(yōu)于±2% |
極限真空 | 1×10-8mbar |
溫控 | RT-800℃ |
陰極數(shù)量 | 3個(gè)2inch靶頭共焦濺射 |
暫無數(shù)據(jù)！
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