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鈣鈦礦太陽(yáng)能電池磁控鍍膜設(shè)備JCPS600品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備名稱(chēng)：鈣鈦礦太陽(yáng)能電池磁控濺射設(shè)備（鍍膜機(jī)+手套箱復(fù)合型）
設(shè)備型號(hào)：JCPS600
鍍膜方式：磁控濺射
真空腔室結(jié)構(gòu)：SUS304方箱式，配有前、后門(mén)
真空腔室尺寸：L600×D600×H550mm
加熱溫度：室溫～300℃
基片臺(tái)尺寸：抽屜式：Φ320mm或210*210mm 可旋轉(zhuǎn)、升降
膜厚不均勻性：≤±5%（210mm×210mm范圍內(nèi)）
蒸發(fā)源/濺射靶：4/6英吋靶：2-3只 DC/RF電源及偏壓電源
晶振膜厚監(jiān)控儀：國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口（可選）
控制方式：PLC/PC控制（可選）
占地面積：L2100mm×W1300mm×H2100mm（不含手套箱）
總功率：≥15kW 三相五線制
1.國(guó)內(nèi)技術(shù)**、市場(chǎng)占有率**，設(shè)計(jì)優(yōu)化，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；
2.適用于磁控濺射與手套箱環(huán)境有機(jī)融合，實(shí)現(xiàn)制備、封裝、測(cè)試等工藝無(wú)縫對(duì)接，廣泛用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池 /OPV 有機(jī)太陽(yáng)能電池及 OLED薄膜等研究系統(tǒng)等。
3.磁控主要是濺射氧化鎳，制備空穴層，濺射ITO制備透明電極，濺射Cu，制備背電極
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磁控濺射設(shè)備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領(lǐng)域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領(lǐng)域：在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個(gè)有點(diǎn)拗口的名字取自俄羅斯礦物學(xué)家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實(shí)際上和鈣、鈦、礦三個(gè)字都沒(méi)太大關(guān)系，這是一類(lèi)與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結(jié)構(gòu)類(lèi)
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應(yīng)，碳?xì)浠衔镌诟邷叵掳l(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成膜先驅(qū)物，當(dāng)樣品溫度合適時(shí)，這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學(xué)氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
CVD(化學(xué)氣相沉積)是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。從理論上來(lái)說(shuō)，它是很簡(jiǎn)單的:兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi)，
有人曾這樣形容磁控濺射技術(shù)——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術(shù)是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面
近年來(lái)，新型太陽(yáng)能電池技術(shù)不斷發(fā)展，鈣鈦礦電池作為其中的代表之一，一度成為人們關(guān)注的熱點(diǎn)。鈣鈦礦電池以其良好的光電轉(zhuǎn)化效果、簡(jiǎn)單的制備工藝和原材料的充足性，被譽(yù)為是下一代光伏電池的主流技術(shù)之一。近日，
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