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納米超硬膜涂層設(shè)備GDM900品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備名稱(chēng)：納米超硬涂層設(shè)備
設(shè)備型號(hào)：GDM900
真空腔室尺寸：Φ900mm×H930mm
真空系統(tǒng)：國(guó)產(chǎn) / 進(jìn)口分子泵 + 羅茨泵 + 機(jī)械泵高真空系統(tǒng)
極限真空：優(yōu)于 8.0×10-5Pa
抽速：從大氣到 5.0×10-3Pa ≤ 25min 升壓率關(guān)機(jī) 12 小時(shí)后真空度≤ 10Pa
工件架尺寸：8 ～ 12 工位，3 軸聯(lián)動(dòng)工件架二套；配專(zhuān)用工件車(chē)
工件烘烤溫度：室溫～ 500℃，可調(diào)可控（PID 控溫）
配置：新型弧源 6-12 只可選、離子源、偏壓
系統(tǒng)：全自動(dòng)控制系統(tǒng)，個(gè)性化的 Tech-Coating 控制菜單，安全保護(hù)系統(tǒng)
占地面積：L4000mm×W3000mm
該設(shè)備可制備TiN\CrN\AlCrN\ZrN\TiC\TiCN\TiAlN\TiAlCN\DLC膜等，非常適合生產(chǎn)企業(yè)大批量在刀具（鉆頭、銑刀、拉刀、絲錐、滾齒刀、車(chē)刀、刀粒等）、高精工模具（沖壓模具、剪切模具、成型模具、注塑模具等）及其他關(guān)鍵部件上鍍制單層/多層硬質(zhì)涂層、耐腐蝕涂層等功能薄膜。
設(shè)備采用全自動(dòng)的控制方式，先進(jìn)的工藝流程控制模式，性能穩(wěn)定可靠，操作簡(jiǎn)單方便。并集成先進(jìn)的新型弧源鍍膜技術(shù)和離子輔助前處理鍍膜技術(shù)，可鍍高質(zhì)量、成膜致密、結(jié)合力好、硬度高的硬質(zhì)涂層，大幅度提高工具及刀具使用壽命。該設(shè)備集成國(guó)際**技術(shù)，性能?chē)?guó)內(nèi)**。
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磁控濺射設(shè)備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領(lǐng)域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領(lǐng)域：在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個(gè)有點(diǎn)拗口的名字取自俄羅斯礦物學(xué)家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實(shí)際上和鈣、鈦、礦三個(gè)字都沒(méi)太大關(guān)系，這是一類(lèi)與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結(jié)構(gòu)類(lèi)
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應(yīng)，碳?xì)浠衔镌诟邷叵掳l(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成膜先驅(qū)物，當(dāng)樣品溫度合適時(shí)，這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學(xué)氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
CVD(化學(xué)氣相沉積)是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。從理論上來(lái)說(shuō)，它是很簡(jiǎn)單的:兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi)，
有人曾這樣形容磁控濺射技術(shù)——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術(shù)是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面
近年來(lái)，新型太陽(yáng)能電池技術(shù)不斷發(fā)展，鈣鈦礦電池作為其中的代表之一，一度成為人們關(guān)注的熱點(diǎn)。鈣鈦礦電池以其良好的光電轉(zhuǎn)化效果、簡(jiǎn)單的制備工藝和原材料的充足性，被譽(yù)為是下一代光伏電池的主流技術(shù)之一。近日，
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