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溫州精硅科技有限公司
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鉆石會(huì)員
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國(guó)內(nèi)高純度石英材料領(lǐng)域近期迎來(lái)重大突破 —— 精硅科技依靠自主研發(fā)的高端再合成技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了超高純石英砂的穩(wěn)定量產(chǎn)。這一成果標(biāo)志著我國(guó)在光刻級(jí)石英材料領(lǐng)域成功突破海外技術(shù)壁壘，正式邁入國(guó)際一流行列，為中國(guó)光刻產(chǎn)業(yè)鏈注入關(guān)鍵 “強(qiáng)心劑”。
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中精度最高、成本最昂貴的核心設(shè)備，其分辨率直接決定芯片制程水平；而光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的核心部件 “鏡頭”，需滿足極高的透光性、熱穩(wěn)定性和光學(xué)均勻性，普通玻璃完全無(wú)法勝任，超高純度合成石英錠是唯一選擇（尤其適配極紫外 EUV、深紫外 DUV 光刻機(jī)）。
這類(lèi)石英錠對(duì)材料特性要求苛刻，具體包括：
純度極高：雜質(zhì)總含量需低于 0.1ppm；
缺陷極少：內(nèi)含氣泡和內(nèi)部缺陷需控制在極低水平；
熱穩(wěn)定性極強(qiáng)：激光照射下熱膨脹系數(shù)近乎為零。
微量雜質(zhì)或內(nèi)部缺陷會(huì)導(dǎo)致光線散射、折射率變化，直接造成芯片制造良率下降甚至失敗。因此，作為石英錠源頭材料的超高純石英砂，其純度直接決定了最終光刻鏡頭的性能上限。
天然石英礦石含有大量金屬雜質(zhì)（如鐵、鋰、鉀等）及內(nèi)部缺陷，需通過(guò)復(fù)雜的物理 + 化學(xué)提純流程，才能達(dá)到光刻級(jí)純度。精硅科技構(gòu)建了全鏈條技術(shù)體系，具體流程如下：
1、源頭把控：依托自有石英礦山，對(duì)礦石進(jìn)行嚴(yán)格分選與破碎，精準(zhǔn)控制晶體粒徑，保障原料一致性；
2、深度除雜：采用高溫氯化、酸浸清洗等工藝，深度去除礦石中的金屬雜質(zhì)；
3、再合成優(yōu)化：通過(guò)高端再合成技術(shù)，在高溫高壓環(huán)境下讓高純硅源重新結(jié)晶，徹底消除內(nèi)部氣泡與雜質(zhì)分布不均問(wèn)題。
作為國(guó)內(nèi)少數(shù)具備超高純石英砂全鏈條生產(chǎn)能力的企業(yè)，精硅科技已實(shí)現(xiàn)兩大關(guān)鍵成果：
產(chǎn)能與純度突破：建成 10 萬(wàn)噸級(jí)高純石英砂產(chǎn)能，并成功攻克 7N 純度（99.99999%）技術(shù)難關(guān)，關(guān)鍵雜質(zhì)元素（Fe、K、Na 等）含量降至 0.01ppm 以下；
商業(yè)化驗(yàn)證通過(guò)：目前 7N 超純石英砂已實(shí)現(xiàn)批量供應(yīng)，且在多家下游鏡頭制造企業(yè)、半導(dǎo)體設(shè)備廠商中完成驗(yàn)證，性能比肩甚至超越國(guó)際主流廠商產(chǎn)品。
五、行業(yè)意義：國(guó)產(chǎn)替代 “深水區(qū)” 的關(guān)鍵一步
此前，超高純石英砂長(zhǎng)期被海外企業(yè)壟斷，是我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化進(jìn)程中的 “卡脖子” 環(huán)節(jié)。精硅科技此次實(shí)現(xiàn) 7N 級(jí)超高純石英砂的量產(chǎn)與商業(yè)化應(yīng)用，具有兩大核心意義：
1、筑牢材料基礎(chǔ)：為光刻機(jī)鏡頭國(guó)產(chǎn)化提供了關(guān)鍵原料支撐，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)光刻級(jí)石英材料的產(chǎn)能與技術(shù)空白；
2、提升全球競(jìng)爭(zhēng)力：顯著增強(qiáng)國(guó)內(nèi)在高端材料領(lǐng)域的全球話語(yǔ)權(quán)，推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化向 “深水區(qū)” 邁進(jìn)。
未來(lái)，隨著芯片制程持續(xù)微縮、光刻技術(shù)迭代升級(jí)，對(duì)石英材料的純度與性能要求將進(jìn)一步提高。精硅科技已率先突破 7N 技術(shù)門(mén)檻，后續(xù)將繼續(xù)加碼研發(fā)與產(chǎn)能擴(kuò)張，助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)從材料到設(shè)備的全方位自主可控。
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