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溫州精硅科技有限公司
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精硅科技實(shí)現(xiàn)超高純石英砂合成重大突破，引領(lǐng)精密光學(xué)產(chǎn)業(yè)新紀(jì)元
國(guó)內(nèi)高純石英材料領(lǐng)域迎來(lái)一項(xiàng)顛覆性進(jìn)展。領(lǐng)軍企業(yè)精硅科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱“精硅科技”）宣布，其研發(fā)團(tuán)隊(duì)已成功攻克超高純石英砂的合成技術(shù)壁壘，實(shí)現(xiàn)了純度高達(dá)99.99999% 產(chǎn)品的規(guī)模化穩(wěn)定生產(chǎn)。這項(xiàng)突破性成果，標(biāo)志著我國(guó)在頂級(jí)石英材料領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了從“受制于人”到“自主可控”的重大跨越，為高端光學(xué)、半導(dǎo)體及航空航天產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)的材料基石。
精密光學(xué)透鏡的性能極限，歸根結(jié)底取決于其核心基材——合成石英玻璃的純度。任何微量的金屬雜質(zhì)都如同光線通路上的“路障”，會(huì)導(dǎo)致散射、吸收和像差，使成像模糊、激光能量耗散。
精硅科技此次推出的超高純石英砂，將總金屬雜質(zhì)含量穩(wěn)定控制在＜0.1 ppm（百萬(wàn)分之一） 的極致水平，對(duì)關(guān)鍵致色元素如鐵（Fe）、銅（Cu）等的含量更是達(dá)到了＜5 ppb（十億分之五） 的原子級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。這種近乎“絕對(duì)純凈”的材質(zhì)，從源頭上確保了光學(xué)玻璃具備無(wú)可比擬的“先天優(yōu)勢(shì)”，為制造世界頂尖的光學(xué)元件提供了可能。
基于該材料合成的光學(xué)級(jí)熔融石英玻璃，其性能參數(shù)達(dá)到了國(guó)際頂尖水準(zhǔn)，完美契合了最嚴(yán)苛的應(yīng)用需求：
極致透過(guò)率： 在深紫外（DUV）至紅外（IR）的廣闊波段內(nèi)，表現(xiàn)出近乎零損耗的光透過(guò)性（@193nm波長(zhǎng)下 >99.6%），極大提升了光刻機(jī)及精密激光系統(tǒng)的能量效率。
卓越均勻性： 折射率的一致性偏差可控制在 ＜1 ppm（±1×10??） 以內(nèi)，確保了光線波前無(wú)相位畸變，成就了超高精度成像所必需的完美平面。
內(nèi)在穩(wěn)定性： 極低的內(nèi)部應(yīng)力（雙折射值＜5 nm/cm）和優(yōu)異的抗輻照性能，保證了光學(xué)元件在高能激光或嚴(yán)酷太空環(huán)境中性能的長(zhǎng)期穩(wěn)定與可靠。
這一材料的突破，正迅速轉(zhuǎn)化為多個(gè)高端領(lǐng)域的核心競(jìng)爭(zhēng)力：
半導(dǎo)體光刻： 成為EUV（極紫外）與DUV（深紫外）光刻機(jī)投影物鏡組和照明系統(tǒng)的核心材料，直接支撐著先進(jìn)制程芯片的制造與良率提升。
太空探索： 為新一代太空望遠(yuǎn)鏡、高分辨率遙感衛(wèi)星鏡頭及星載光學(xué)系統(tǒng)提供鏡坯，其超凡穩(wěn)定性保障了在軌長(zhǎng)期可靠運(yùn)行。
高端科研： 應(yīng)用于同步輻射光束線、大型激光核聚變裝置（ICF）、超分辨率顯微系統(tǒng)等大國(guó)重器，滿足前沿科學(xué)探索對(duì)光學(xué)極限的追求。
先進(jìn)制造： 制造用于半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備、高精度激光加工頭、光纖陀螺儀等高端裝備中的核心光學(xué)部件。
精硅科技此次技術(shù)突破，徹底打破了國(guó)外企業(yè)在頂級(jí)石英材料領(lǐng)域的長(zhǎng)期壟斷，解決了我國(guó)高端光學(xué)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的“卡脖子”難題。目前，公司產(chǎn)品已獲得國(guó)內(nèi)多家頂尖光學(xué)期貨廠商和科研機(jī)構(gòu)的高度認(rèn)可，并成功實(shí)現(xiàn)批量應(yīng)用。
“我們破解的不僅是純度的密碼，更是中國(guó)高端光學(xué)產(chǎn)業(yè)自主發(fā)展的枷鎖。”精硅科技總經(jīng)理表示，“未來(lái)，我們將持續(xù)聚焦于超高純材料的性能邊界探索，以更卓越的產(chǎn)品賦能中國(guó)智造，為從芯片到太空的每一個(gè)‘清晰視界’提供中國(guó)解決方案?！?/p>
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